分子动力学模拟不同入射能量的SiF2与SiC的相互作用

• 作者: 吕晓丹 宁建平 秦尤敏 苟富均 贺平逆 赵成利
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 分子动力学 分解率 沉积率 SixFy薄膜
• 年，卷（期）: 2011,（3）
• 所属期刊栏目: 其它
• 页码范围: 376-380
• 分类号: TN304.12
• 字数: 3894字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2011.03.25

摘要

采用分子动力学模拟方法研究了入射能量对SiF2与SiC样品表面相互作用的影响.本次模拟选择的人射初始能量分别为0.3,1,5,10和25 eV.模拟结果显示SiF2分解率与Si和F原子的沉积率有密切的关系.沉积的Si和表面形成一层Si,Fy薄膜.随入射能量的增加,薄膜厚度先增加后减小,薄膜中Si-Si键密度增大.构成薄膜的主要成分SiFx(x=1~4)中主要是SiF和SiF2,随入射能量的增加,薄膜成分由SiF2向SiF转变.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕晓丹	贵州大学等离子体与材料表面作用研究所	15	59	4.0	7.0
2	赵成利	贵州大学等离子体与材料表面作用研究所	8	11	2.0	2.0
6	贺平逆	贵州大学等离子体与材料表面作用研究所	7	11	2.0	3.0
7	宁建平	贵州大学等离子体与材料表面作用研究所	6	18	2.0	4.0
8	秦尤敏	贵州大学等离子体与材料表面作用研究所	6	18	2.0	4.0