大数值孔径下的偏振成像分析

• 作者: 刘勇 杨雄 邢廷文
• 来源期刊: 光电工程
• 学科: 物理学
• 关键词: 偏振成像:大数值孔径 光刻
• 年，卷（期）: 2011,（12）
• 所属期刊栏目: 微纳光学
• 页码范围: 35-40
• 分类号: O436.1|O436.3
• 字数: 2573字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-501X.2011.12.007

摘要

光刻设备的分辨率越来越高,以满足集成电路特征尺寸不断缩小的要求.根据瑞利判据,可以通过缩小曝光波长和工艺因子、增大数值孔径来提升光学投影光刻的分辨率.随着数值孔径的增加,光的偏振特性对成像的影响越来越大.通过分析偏振光的成像特性,控制照明的偏振方向,可以延伸光刻的分辨率.运用光的干涉原理分析了偏振光影响成像质量的原因,结合阿贝成像原理与偏振的矢量特性对偏振光的成像进行了仿真,比较了不同偏振照明下的成像对比度及焦深.结果表明,对图形选取相应的偏振照明,可以改善成像质量.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘勇	中国科学院光电技术研究所	211	1777	22.0	33.0
5	邢廷文	中国科学院光电技术研究所	67	501	11.0	17.0
6	杨雄	中国科学院光电技术研究所	7	28	4.0	5.0