TiO2薄膜折射率的调控方法

• 作者: 周灵平 彭坤 朱家俊 李德意 李绍禄 罗小兰
• 来源期刊: 湖南大学学报（自然科学版）
• 关键词: 薄膜 折射率 电子束蒸发
• 年，卷（期）: 2011,（9）
• 所属期刊栏目: 材料科学
• 页码范围: 59-63
• 分类号: O484.41
• 语种: 中文

摘要

采用电子束蒸发技术及其辅助工艺制备了TiO2薄膜,利用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)和原子力显微镜(AFM)对薄膜的组织结构进行了表征,采用紫外可见分光光度计研究了TiO2薄膜的折射率变化.结果表明:传统电子束蒸发镀制的TiO2薄膜的折射率低于块体值,通过调节氧气压、沉积速率和衬底温度可在1.97～2.22范围内调控其折射率；采用离子束辅助轰击可使薄膜致密化,获得折射率在2.06～2.42范围内变化的TiO2薄膜；利用斜角入射沉积可控制薄膜生长角度与孔隙率,实现折射率在1.71～2.18范围内的调控.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周灵平	湖南大学材料科学与工程学院	48	322	11.0	16.0
2	李绍禄	湖南大学材料科学与工程学院	26	292	10.0	16.0
3	李德意	湖南大学材料科学与工程学院	44	411	11.0	19.0
4	彭坤	湖南大学材料科学与工程学院	36	254	8.0	15.0
5	朱家俊	湖南大学材料科学与工程学院	28	127	6.0	10.0
6	罗小兰	湖南大学材料科学与工程学院	2	16	2.0	2.0