真空直流溅射镀膜的条件分析

• 作者: 宋源 黄伟其
• 来源期刊: 贵州科学
• 学科: 其他
• 关键词: 真空 溅射 镀膜条件
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 1-4
• 分类号: O433|O54|O7860F|O7280E
• 字数: 3003字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-6563.2011.02.001

摘要

由真空直流溅射镀膜所得到的样品表面薄膜质量受到镀膜条件的影响,这些条件包括镀膜的氛围和直流电压,其中的惰性气体如氩气的气压控制是致关重要的,这2个参量对离子流的影响是很明显的.在试验中,对离子流与这2个参量的关系进行了定量分析,从而确定出镀膜条件的影响规律,找到最佳的镀膜条件.我们还采用了在样品表面加圆柱环的方法来控制等离子流溅射方向从而使镀膜均匀.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄伟其	贵州大学理学院	40	77	5.0	6.0
2	宋源	贵州大学理学院	2	4	1.0	2.0