冷态输送ZrCl4低压化学气相沉积ZrC涂层的制备

• 作者: 刘岗 孙威 李国栋 熊翔 王雅雷 陈招科
• 来源期刊: 航空材料学报
• 关键词: ZrC涂层 CVD 冷态输送ZrCl4 表面形貌 组织结构 生长机理
• 年，卷（期）: 2011,（6）
• 页码范围: 36-42
• 分类号: TB35
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-5053.2011.6.007

摘要

采用zrCl4-CH4-H2-Ar反应体系,冷态输送ZrCl4粉末化学气相沉积(CVD)制备ZrC涂层.采用热力学计算并结合实验结果分析了冷态输送ZrCl4化学气相沉积ZrC涂层的特点,采用X射线衍射仪和扫描电镜分析了涂层的物相组成、表面形貌和组织结构.结果表明:冷态输送ZrCl4粉末大幅度降低了ZrC的化学气相沉积温度,且容易获得大面积、结构均匀的ZrC涂层.涂层表面由直径在20 ～ 80nm之间的颗粒组成,为无规则“田状”组织.涂层结构主要为柱状晶,沿(200)面优先生长.分析了这种新型“田状”ZrC涂层组织的形成机理以及ZrC涂层的生长机制.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	熊翔	中南大学粉末冶金国家重点实验室	345	3793	27.0	39.0
2	李国栋	中南大学粉末冶金国家重点实验室	53	255	9.0	11.0
3	陈招科	中南大学粉末冶金国家重点实验室	48	514	12.0	21.0
4	孙威	中南大学粉末冶金国家重点实验室	22	88	6.0	8.0
5	王雅雷	中南大学粉末冶金国家重点实验室	21	79	5.0	7.0
6	刘岗	中南大学粉末冶金国家重点实验室	5	68	5.0	5.0