离子束溅射制备Bi2Te3热电薄膜

• 作者: 张东平 梁广兴 范平 蔡兴民 郑壮豪
• 来源期刊: 深圳大学学报（理工版）
• 学科: 工学
• 关键词: 凝聚态物理 离子束溅射 Bi2Te3薄膜 热电材料 晶体结构 电学性能 热处理
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 页码范围: 84-88
• 分类号: TN304|O469
• 字数: 3298字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-2618.2011.01.013

摘要

采用离子束溅射技术,溅射不同面积比例的Bi/Te二元复合靶,制备Bi2Te3热电薄膜,所制备的薄膜Bi:Te原子比接近2:3.X射线衍射测量结果显示,薄膜的主要衍射峰与Bi2Te3标准衍射峰相同,在(015)晶面上择优选向明显,存在少量的Bi和[Bi,Te]杂质峰.霍尔系数测试及Seebeck系数测量结果表明,薄膜都为n型半导体薄膜,电导率量级为105 Sm-1,电学性能良好.在不同条件下制备的薄膜Seebeck系数最大值为-168 μVK-1,最小值为-32 μVK-1.其中,Bi:Te 原子比为0.69,退火温度为300 ℃的薄膜功率因子最大,达1.1×10-3 Wm-1K-2.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	范平		2	9	2.0	2.0
2	郑壮豪		2	9	2.0	2.0
3	梁广兴		2	9	2.0	2.0
4	张东平		2	9	2.0	2.0