氧分压对射频磁控溅射制备氧化锌薄膜光电学性质的影响

• 作者: 彭福川 林丽梅 盖荣权 赖发春 郑卫峰
• 来源期刊: 福建师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 氧化锌薄膜 射频磁控溅射 氧分压 光电学性质
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 页码范围: 52-56
• 分类号: O484
• 字数: 3435字
• 语种: 中文

摘要

利用射频磁控溅射在石英基片上沉积ZnO薄膜.为了研究氧分压对ZnO薄膜的结构和光电学性质的影响,在氧分压0.00,2.54,5.06,7.57 mPa的条件下制备了4个样品.样品的微结构、表面形貌和光电学性质分别用X射线衍射仪、原子力显微镜、分光光度计和Van der Pauw方法进行测量.结果表明,所有样品的主要衍射峰为(002)峰,随氧分压的增加,(002)峰的强度降低,且出现了(101)面的衍射峰.氧分压的升高,薄膜的表面粗糙度和载流子浓度减小,迁移率增大,电阻率从氧分压为0时的0.2 Ωcm增加到7.57 mPa时的1 400 Ωcm.所有样品在可见光区的平均透过率都大于83%,薄膜的折射率随氧分压的增加而增大,而消光系数和光学带隙则减小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林丽梅	福建师范大学物理与光电信息科技学院	28	139	8.0	11.0
2	赖发春	福建师范大学物理与光电信息科技学院	37	216	8.0	13.0
3	郑卫峰	福建师范大学物理与光电信息科技学院	40	61	5.0	6.0
4	盖荣权	福建师范大学物理与光电信息科技学院	11	70	5.0	8.0
5	彭福川	福建师范大学物理与光电信息科技学院	5	20	3.0	4.0