离子束辅助沉积法制备TiAlN/TiB2纳米多层膜的研究

• 作者: 刘梦寅 孙延东 张帅 曹猛 李德军 董磊 颜景岳
• 来源期刊: 天津师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 离子束辅助沉积 TiA1N/TiB2纳米多层膜 硬度
• 年，卷（期）: 2011,（3）
• 页码范围: 45-48
• 分类号: TG174.444
• 字数: 2592字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-1114.2011.03.011

摘要

运用离子束辅助沉积法(IBAD)制备了一系列具有不同调制比例的TiAlN/TiB2纳米多层膜,利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和纳米压痕等表征手段研究了薄膜调制比例对其硬度、内应力和膜基结合力等力学性质的影响.结果表明:随着调制比例从8∶1变化到25∶1,多层膜的硬度在29～34 GPa之间变化,所有多层膜的硬度均高于TiAlN和TiB2两种各体层材料通过混合法则得的结果,结合XRD结果分析认为,TiAlN(111)择优取向是薄膜硬度升高的一个重要原因.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李德军	天津师范大学物理与电子信息学院	73	242	7.0	11.0
2	曹猛	天津师范大学物理与电子信息学院	12	36	5.0	5.0
3	孙延东	天津师范大学物理与电子信息学院	3	7	2.0	2.0
4	颜景岳	天津师范大学物理与电子信息学院	2	7	2.0	2.0
5	张帅	天津师范大学物理与电子信息学院	15	21	3.0	4.0
6	董磊	天津师范大学物理与电子信息学院	17	30	3.0	4.0
7	刘梦寅	天津师范大学物理与电子信息学院	1	2	1.0	1.0