不同电压下镁合金的微弧氧化行为

• 作者: 王蕊 田庆涛 陈明 马跃洲
• 来源期刊: 腐蚀与防护
• 学科: 工学
• 关键词: 镁合金 微弧氧化 脉冲电源 氧化时间 临界电压
• 年，卷（期）: 2011,（5）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 363-365,387
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.45
• 语种: 中文

摘要

为了解电压在镁合金微弧氧化中的作用，本工作在双极性脉冲电源的恒流加载方式下，通过考察电压对氧化时间、膜层厚度及表面形貌的影响，研究电压对微弧氧化机理的影响。结果发现，当负电压为零，占空比20％和30％时，电压低于380V时所需的氧化时间要短于电压高于380 V时的氧化时间。当占空比30％，负电压为零和40 V时，电压低于340 V的氧化时间和膜层增长速率都小于电压高于340 V的；电压低于340 V时的膜层表面形貌优于340 V以上膜层。可见，微弧氧化过程中存在一个临界电压，微弧氧化过程分成两种情况，两种情况的微弧氧化机理不尽相同。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马跃洲		60	493	13.0	18.0
2	陈明		14	167	6.0	12.0
3	田庆涛		3	15	2.0	3.0
4	王蕊		6	18	2.0	4.0