氧压对PLD制备掺铜ZnO薄膜光学性质的影响

• 作者: 张立春 李清山 董艳锋 解晓君 赵涛
• 来源期刊: 激光技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 掺铜ZnO 脉冲激光沉积 氧压 光致发光
• 年，卷（期）: 2011,（6）
• 所属期刊栏目: 激光材料和光学元件
• 页码范围: 781-783,799
• 分类号: O484.1
• 字数: 2600字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3806.2011.06.016

摘要

为了研究生长氧压对ZnO薄膜的结构和光学性质的影响,采用脉冲激光沉积技术,在P-Si〈111〉衬底上制备了不同生长氧压下的掺铜ZnO薄膜.利用X射线衍射仪对样品的结构进行了分析,并用荧光分光光度计对样品的光致发光谱进行了测量.结果表明,所有样品均在2θ=34.3°附近出现ZnO(002)衍射峰,没有发现Cu的衍射峰,在衬底温度为400℃、生长氧压为0.2Pa的条件下,样品有较好的c轴择优取向；室温下测得样品的光致发光谱中均观察到460hm(2.71eV)左右的蓝光发光带,该发光带来源于薄膜中的锌空位和锌填隙缺陷,属于深能级发射机制,并且随着氧压的升高,其发光强度增强.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李清山	曲阜师范大学物理工程学院	57	249	9.0	12.0
5	张立春	曲阜师范大学物理工程学院	14	25	3.0	3.0
6	董艳锋	曲阜师范大学物理工程学院	18	55	4.0	6.0
7	解晓君	曲阜师范大学物理工程学院	5	7	2.0	2.0
8	赵涛	曲阜师范大学物理工程学院	5	9	2.0	2.0