无支撑、光学级MPCVD金刚石膜的研制

• 作者: 丁明清 冯进军 李含雁 白国栋 胡银富 陈长青
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 微波等离子体 化学气相沉积 无支撑金刚石膜 光学透过率
• 年，卷（期）: 2011,（6）
• 所属期刊栏目: 功能薄膜
• 页码范围: 661-665
• 分类号: TB75
• 字数: 3757字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2011.06.02

摘要

利用引进的6kW微波等离子体化学气相沉积设备,进行了无支撑金刚石膜工艺的初步研究.在800～I050℃的基片温度范围内,金刚石膜都呈(111)择优取向；基片相对位置对沉积较大面积、光学级金刚石膜至关重要.制出0.25mm厚φ50mm的无支撑金刚石膜.拉曼光谱和X射线衍射分析表明,合成的金刚石膜晶体结构完整,sp2含量极低；透过率测试结果说明了优良的光学性能:截止波长225nm,光学透过率(λ≥2.5 μm)≥70％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	丁明清	大功率微波电真空器件技术国防科技重点实验室北京真空电子技术研究所	2	34	2.0	2.0
2	冯进军	大功率微波电真空器件技术国防科技重点实验室北京真空电子技术研究所	6	72	4.0	6.0
3	白国栋	大功率微波电真空器件技术国防科技重点实验室北京真空电子技术研究所	2	34	2.0	2.0
4	陈长青	大功率微波电真空器件技术国防科技重点实验室北京真空电子技术研究所	1	10	1.0	1.0
5	李含雁	大功率微波电真空器件技术国防科技重点实验室北京真空电子技术研究所	1	10	1.0	1.0