聚合物光波导的等离子体刻蚀工艺研究

• 作者: 孙小强 孟杰 张大明 曹子谏 靳琳
• 来源期刊: 光子学报
• 学科: 工学
• 关键词: ICP刻蚀 聚合物波导 各向异性 刻蚀速率 粗糙度
• 年，卷（期）: 2011,（z1）
• 页码范围: 7-10
• 分类号: TN3
• 字数: 2369字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/gzxb201140s1.0007

摘要

等离子体干法刻蚀是聚合物光波导制备过程中一项关键工艺.利用感应耦合等离子体各向异性刻蚀工艺制备了聚合物脊形结构波导,研究了不同工艺参量(源功率、偏置功率、刻蚀腔室压强以及气体组分)对脊形波导刻蚀速率的影响.利用扫描电子显微镜对刻蚀后波导高度、侧壁垂直度及表面粗糙度进行分析,得到了高刻蚀速率和低粗糙度的优化工艺条件.实验结果表明:在其他工艺条件相同的情况下,刻蚀速率随着感应耦合等离子体源功率及偏置功率的增大而增加,随刻蚀腔室压强的增大而减小,随着Ar在O2/Ar混合气体中百分比的增大而先增大后减小.样品表面粗糙度会随着偏置功率及刻蚀腔室压强的增大而逐渐增加.在源功率350 W,偏置功率50 W,刻蚀腔室压强0.5 Pa,O2/Ar流量配比40 sccm/10 sccm的务件下得到了侧壁陡直和表面平整的脊形聚合物光波导.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孟杰	吉林大学电子科学与工程学院集成光电子学国家重点联合实验室	4	17	3.0	4.0
2	曹子谏	吉林大学电子科学与工程学院集成光电子学国家重点联合实验室	2	9	1.0	2.0
3	靳琳	吉林大学电子科学与工程学院集成光电子学国家重点联合实验室	2	9	1.0	2.0
4	孙小强	吉林大学电子科学与工程学院集成光电子学国家重点联合实验室	19	62	4.0	7.0
5	张大明	吉林大学电子科学与工程学院集成光电子学国家重点联合实验室	44	113	6.0	9.0