电子束曝光制备光滑曲面微结构

• 作者: 初明璋 孔祥东 李建国 韩立
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 电子束 分子量 玻璃转换温度 吸收能量密度 剂量
• 年，卷（期）: 2011,（7）
• 所属期刊栏目: 加工、测量与设备
• 页码范围: 460-463
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2313字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2011.07.010

摘要

提出了一种基于电子束曝光制备光滑曲面微结构的新技术.对聚合物玻璃转化温度与分子量之间的关系、分子量与电子束吸收能量密度之间的关系进行了理论分析,发现聚合物玻璃转化温度随吸收能量密度的增加而减小.以此为依据,在FEI 820 DualBeam FIB/SEM系统上采用15 keV、不同剂量的电子束对S1805正性抗蚀剂微结构进行了曝光实验,得到了具有不同高度、轮廓清晰的光滑曲面微结构,为使用电子束曝光技术加工光滑曲面微结构提供了新工艺.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李建国	中国科学院电工研究所	91	924	17.0	27.0
2	韩立	中国科学院电工研究所	98	376	9.0	13.0
3	初明璋	中国科学院电工研究所	15	85	6.0	8.0
4	孔祥东	中国科学院电工研究所	4	2	1.0	1.0