化学腐蚀法制备发光硅纳米颗粒

• 作者: 刘红飞 吴悦迪 朱骏 陈小兵 陈海涛
• 来源期刊: 扬州大学学报（自然科学版）
• 学科: 化学
• 关键词: 硅纳米晶 化学腐蚀 光致发光 量子限制效应
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 页码范围: 40-42
• 分类号: O613.72
• 字数: 2046字
• 语种: 中文

摘要

用硝酸和氢氟酸的混合酸液腐蚀普通硅粉,经过超声空化作用,分别在去离子水、无水乙醇中制备出硅纳米晶颗粒.硅纳米颗粒的平均粒径约为2 nm,它们或单独存在,或包裹于非晶态物质中.在320 nm的光激发下,硅纳米颗粒的悬浮液在390 nm处呈现一明显的紫外发光峰,理论分析证明该发光峰与硅量子点的量子限制效应有关.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈小兵	扬州大学物理科学与技术学院	56	224	8.0	11.0
2	陈海涛	扬州大学物理科学与技术学院	15	36	4.0	5.0
3	朱骏	扬州大学物理科学与技术学院	30	125	7.0	9.0
4	刘红飞	扬州大学物理科学与技术学院	11	29	3.0	5.0
5	吴悦迪	扬州大学物理科学与技术学院	3	11	2.0	3.0