TiN薄膜的制备及其纳米力学性能研究

• 作者: 何正彪 崔秀芳 肖卫华
• 来源期刊: 苏州科技学院学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 氮化钛 薄膜 性能
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 页码范围: 24-27
• 分类号: TG178
• 字数: 1907字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-0687.2011.01.006

摘要

采用磁控溅射工艺制备了TiN薄膜,借助X射线衍射仪、场发射扫描电子显微镜、原子力显微镜和纳米压痕仪等设备,研究了薄膜制备工艺参数(如基体温度、溅射功率、基体负偏压等)对薄膜的相结构、表面微观形貌、纳米硬度、弹性模量等的影响.结果表明:TiN 薄膜为多晶态,其溅射功率、基体负偏压和基体温度等条件对薄膜的形貌、结构及纳米硬度、弹性模量等的影响比较复杂.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	崔秀芳	哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院	25	162	7.0	12.0
2	肖卫华		5	19	3.0	4.0
3	何正彪	哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院	2	7	2.0	2.0