氧流量对磁控溅射ZrO2薄膜光学性能的影响

• 作者: 戚云娟 朱昌 梁海峰
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: ZrO2薄膜 反应磁控溅射 氧流量 光学特性
• 年，卷（期）: 2011,（5）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 18-20,53
• 分类号: TG174.444|O484.4
• 字数: 2275字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2011.05.005

摘要

采用反应磁控溅射法在k9玻璃基底上沉积ZrO2薄膜.用轮廓仪、椭圆偏振仪和分光光度计,分别测试薄膜的厚度、折射率、消光系数和透过率,研究了不同氧流量对薄膜沉积速率和光学特性的影响.结果表明:随着氧气流量增加到22～24 mL/min(标准状态下)时,沉积速率从6.8 nm/s下降到2.5 nm/s,并趋于稳定；在入射波长630 nm处,薄膜的折射率为1.95,消光系数小于10-5；在可见及近红外波段,薄膜平均透过率高于80％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱昌	西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测实验室	39	245	9.0	13.0
2	梁海峰	西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测实验室	7	36	4.0	5.0
3	戚云娟	西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测实验室	2	5	2.0	2.0