配位剂对低浓度硫酸铬镀铬的影响

• 作者: 屠振密 李宁 毕四富 龚超
• 来源期刊: 电镀与精饰
• 学科: 工学
• 关键词: 三价铬电镀铬 硫酸铬 配位剂
• 年，卷（期）: 2011,（9）
• 所属期刊栏目: 论文
• 页码范围: 1-4
• 分类号: TQ153.11
• 字数: 2820字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3849.2011.09.001

摘要

环保、成本较低的低浓度硫酸盐三价铬电镀装饰性铬受到广泛关注.在低浓度硫酸铬体系中,研究了配位剂对镀液和镀层性能的影响.实验结果表明,以甲酸钠和苹果酸作为复合配位剂的镀液性能较好.该镀液在pH =3.0,θ=40℃时,所得镀层光亮,电流密度范围较宽,镀液稳定性达10 Ah/L,沉积速率大于0.2 μm/min.