硼酸缓冲溶液中Clˉ浓度和温度对690合金腐蚀行为的影响

• 作者: 柯伟 王俭秋 韩恩厚 黄发
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: 690合金 钝化膜 动电位极化 电化学阻抗谱(EIS) Mott-Scottky方法
• 年，卷（期）: 2011,（7）
• 页码范围: 809-815
• 页数: 7页
• 分类号: TG172.6
• 语种: 中文
• DOI: 10.3724/SP.J.1037.2011.00212

摘要

在硼酸缓冲溶液中,采用动电位极化、电化学阻抗谱(EIS)和半导体电容分析方法分别研究了Clˉ浓度(0.5-2 mol/L)和溶液温度(25-80℃)对690合金腐蚀行为的影响,并结合AFM,XPS及电位-pH图分析了钝化膜层的腐蚀产物.结果表明,不同Clˉ浓度和温度的溶液中,690合金均表现出沿晶腐蚀和二次钝化的特征.Clˉ浓度和溶液温度的提高均使690合金的自腐蚀电位下降,腐蚀电流密度增大,同时温度的升高还使690合金的点蚀电位降低,钝化区间变窄.恒电位极化相同时间,低电位的钝化区内的腐蚀产物主要为Cr,Fe的氧化物和Ni(OH)2,钝化膜较薄且致密性好,体现n型与p型共存的特征.高电位的钝化区内的腐蚀产物主要为Ni2O3,钝化膜较厚但致密性差,体现n型半导体特征.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	韩恩厚	中国科学院金属研究所	206	4305	30.0	59.0
2	王俭秋	中国科学院金属研究所	54	346	11.0	18.0
3	柯伟	中国科学院金属研究所	188	3932	30.0	58.0
4	黄发	中国科学院金属研究所	4	0	0.0	0.0