应用于场致发射的掺杂纳米金刚石膜的研究

• 作者: 汪建华 熊礼威 王文君 翁俊 陈冠虎
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 场致发射 纳米金刚石薄膜 掺杂
• 年，卷（期）: 2011,（3）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 43-48
• 分类号: TB43|O472
• 字数: 5352字
• 语种: 中文

摘要

场致发射是一种新型显示技术,具有良好应用前景,场发射显示器的核心内容是场发射阴极材料,纳米金刚石由于低表面粗糙度、低场发射强度、高发射电流密度、大比表面积、网状结构以及高密度悬挂键等优秀电化学性能成为场发射的理想阴极材料.本文阐述了化学气相沉积法制备纳米金刚石薄膜的沉积装置、预处理和工艺参数,并介绍了金刚石掺杂机理和掺入元素的研究现状.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	汪建华	武汉工程大学材料与工程学院湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	123	698	14.0	19.0
2	熊礼威	武汉工程大学材料与工程学院湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	37	243	9.0	14.0
3	翁俊	武汉工程大学材料与工程学院湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	33	102	4.0	8.0
4	王文君	武汉工程大学材料与工程学院湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	2	7	2.0	2.0
5	陈冠虎	武汉工程大学材料与工程学院湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	1	3	1.0	1.0