真空热处理对镀Al薄膜NdFeB磁体组织和耐蚀性的影响

• 作者: 孙宝玉 岳向吉 巴德纯 房也 杨彬 段永利
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: NdFeB 磁控溅射 Al薄膜 真空热处理 耐蚀性能
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 页码范围: 221-224
• 分类号: TM273
• 字数: 3073字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2011.02.19

摘要

用直流磁控溅射工艺,在NdFeB磁体表面镀Al薄膜,并对镀Al薄膜的磁体进行真空热处理,研究工艺、温度和时间对镀层成分、组织和性能的影响.结果表明:NdFeB镀Al薄膜磁体经650℃,10min热处理后,综合性能最佳,Al膜层与NdFeB磁体在界面产生冶金结合,增强了界面结合力,又保持了Al膜层的完整性、连续性和良好耐蚀性.通过对样品微组织的观察发现,当热处理温度高于650℃时,Al膜层与基体之间产生互扩散,形成新的RFeAlB相,随着温度继续升高,新相的长大,破坏了Al膜层的完整性和连续性,产生许多微缺陷和裂纹,耐蚀性降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	巴德纯	东北大学机械工程与自动化学院	250	1491	18.0	22.0
2	房也	东北大学机械工程与自动化学院	9	57	5.0	7.0
4	孙宝玉	东北大学机械工程与自动化学院	3	10	2.0	3.0
6	岳向吉	东北大学机械工程与自动化学院	18	77	5.0	8.0
11	杨彬		4	21	3.0	4.0
12	段永利		3	15	2.0	3.0