电子轰击型离子源中抑制H3+的几点思考

• 作者: 张子斌 徐宗浩 李雪松 翟利华 韦冠一
• 来源期刊: 质谱学报
• 学科: 化学
• 关键词: 低分辨率质谱计 电子轰击型离子源 H3+ 氢同位素
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 100-103
• 分类号: O657.63
• 字数: 3184字
• 语种: 中文

摘要

分析了在电子轰击型(EI)离子源中,磁场、进样量、阴极电流和阴极电压等4种主要仪器设备条件对产生H3+的影响,在实验中得到较好的验证,并得到H3+在4种条件下的基本影响趋势.本研究对使用低分辨率质谱计分析天然氢同位索时,EI离子源参数的调节和进样量的选取具有指导意义.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	翟利华		46	95	5.0	6.0
2	张子斌		28	48	3.0	5.0
3	韦冠一		35	40	3.0	3.0
4	李雪松		35	47	3.0	5.0
5	徐宗浩		1	0	0.0	0.0