磁控溅射铬镀层的微观组织结构研究

• 作者: 田跃生
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 铬镀层 微观形貌
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 41-42,68
• 分类号: TG174.444
• 字数: 1070字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2011.02.013

摘要

采用磁控溅射技术制备了铬镀层,利用X射线衍射仪研究了铬镀层的物相和择优生长取向,并结合扫描电子显微镜和透射电子显微镜观察、分析了铬镀层的微观组织结构.研究结果表明:磁控溅射铬镀层呈多晶态结构,以Cr(110)晶面为择优生长面;铬镀层截面呈柱状生长特性,在沉积的最初阶段即形核晶化,随着沉积时间的延长,晶化程度逐渐提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	田跃生		4	11	2.0	3.0