透明导电GZO/Cu/GZO多层薄膜的室温生长及性能研究

• 作者: 别勋 叶志镇 吕建国 王钰萍
• 来源期刊: 西安理工大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: ZnO 多层薄膜 透明导电 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 页码范围: 214-218
• 分类号: TN304.2
• 字数: 3380字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-4710.2011.02.017

摘要

研究Ga掺杂ZnO(GZO)和Cu薄膜形成的GZO/Cu/GZO多层薄膜体系,以期提高透明导电薄膜的综合性能.GZO/Cu/GZO多层薄膜由直流磁控溅射技术在室温下制备,研究Cu层厚度对多层薄膜结构、电学和光学性能的影响.结果表明GZO/Cu/GZO多层薄膜具有较好的结晶性能.随着Cu层厚度的增加,多层薄膜的可见光透射率有所降低,同时电学性能大幅度提升.在Cu层厚度为7.5 nm时,GZO/Cu/GZO多层薄膜获得最优的光电综合性能指标,且相对于单层GZO薄膜ΦTC因子从7.65×10-5 Ω-1增加到1.48×10-3Ω-1.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	叶志镇	浙江大学硅材料国家重点实验室	155	1638	21.0	35.0
2	吕建国	浙江大学硅材料国家重点实验室	35	769	12.0	27.0
3	别勋	浙江大学硅材料国家重点实验室	2	12	2.0	2.0
4	王钰萍	浙江大学硅材料国家重点实验室	5	16	3.0	4.0