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FCVA法制备的超薄类金刚石薄膜的结构分析
FCVA法制备的超薄类金刚石薄膜的结构分析
作者:
刘凡新
尹云飞
车晓舟
马洪涛
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
真空阴极过滤电弧
类金刚石薄膜
结构
摘要:
用真空阴极过滤电弧(Filtered Cathode Vacuum Are,FCVA)法制备厚度分别为50 nm,30 nm,10 nm,5 nm,2 nm的类金刚石(DLC)薄膜,利用托曼光谱和电子能量损失谱研究了薄膜的结构,分析了硬度和内应力的变化趋势.结果表明,随着薄膜厚度的减小,可见光拉曼光谱高斯分解的G峰位置向低波数方向移动,D峰和G峰强度之比Id/Ig不断增大,G峰面积与D峰面积之比Ag/Ad减小;说明随着薄膜厚度的减小,DLC薄膜中的sp3键含量减少,有序化的sp3团簇增加.电子能量损失谱的结果也表明薄膜厚度的减小会引起薄膜中sp3键含量的减少.当薄膜的厚度由50 nm变为30 nm时,薄膜硬度由53.85 GPa减小为39.64 GPa,内应力由4.63 GPa降低为3.47 GPa,随着厚度降低,薄膜的硬度和内应力呈下降趋势.
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文献信息
篇名
FCVA法制备的超薄类金刚石薄膜的结构分析
来源期刊
真空
学科
工学
关键词
真空阴极过滤电弧
类金刚石薄膜
结构
年,卷(期)
2011,(2)
所属期刊栏目
薄膜
研究方向
页码范围
28-32
页数
分类号
TB43
字数
3790字
语种
中文
DOI
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作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
尹云飞
华南理工大学材料科学与工程学院
2
11
2.0
2.0
2
车晓舟
华南理工大学材料科学与工程学院
20
212
6.0
14.0
3
马洪涛
4
14
2.0
3.0
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刘凡新
1
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真空阴极过滤电弧
类金刚石薄膜
结构
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空
主办单位:
中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1002-0322
CN:
21-1174/TB
开本:
大16开
出版地:
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
邮发代号:
8-30
创刊时间:
1964
语种:
chi
出版文献量(篇)
2692
总下载数(次)
3
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