SiO2/TiO2变折射率光学薄膜制造技术研究

• 作者: 宁晓阳 杭凌侠 潘永强 郭峰
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: SiO2/TiO2薄膜 单源混蒸 电子束蒸发 变折射率
• 年，卷（期）: 2011,（6）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 58-61,77
• 分类号: TG174.444|O484.4
• 字数: 4061字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2011.06.017

摘要

探讨了单源混蒸技术制备SiO2/TiO2变折射率薄膜的可行性,分别蒸发SiO2和TiO2质量比为1:1和1:2的混料,研究分析了薄膜折射率的变化情况,并将其与双源共蒸的方法进行了比较.实验中发现,两种材料蒸发方式的差异是影响SiO2/TiO2变折射率薄膜制备的主要因素,尚未发现混料中SiO2和TiO2的质量比与SiO2/TiO2薄膜折射率的对应关联.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杭凌侠		93	777	15.0	22.0
3	潘永强		63	392	11.0	15.0
7	宁晓阳		2	11	2.0	2.0
11	郭峰		5	12	2.0	3.0