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Nonlinear Solubility Behavior of Polymer and Oligomer Resists at Electron Beam Modification
Nonlinear Solubility Behavior of Polymer and Oligomer Resists at Electron Beam Modification
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摘要：
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文献信息
| 篇名 | Nonlinear Solubility Behavior of Polymer and Oligomer Resists at Electron Beam Modification | ||
| 来源期刊 | 材料科学与工程：中英文B版 | 学科 | 化学 |
| 关键词 | 线性聚合物 电子束改性 行为机制 溶解度 齐聚物 电子束光刻 倍半硅氧烷 曝光剂量 | ||
| 年，卷（期） | 2011,（4） | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | 523-529 | |
| 页数 | 7页 | 分类号 | O631.1 |
| 字数 | 语种 | ||
| DOI | |||
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线性聚合物
电子束改性
行为机制
溶解度
齐聚物
电子束光刻
倍半硅氧烷
曝光剂量
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期刊影响力
材料科学与工程：中英文B版
主办单位：
美国大卫出版公司
出版周期：
双月刊
ISSN：
2161-6221
CN：
开本：
出版地：
武汉洪山区卓刀泉北路金桥花园C座4楼
邮发代号：
创刊时间：
语种：
出版文献量（篇）
570
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