彩色滤光膜硅覆液晶微显示器中像素尺寸及滤光膜厚度对彩色侧向场效应的影响

• 作者: 张宝龙 戴凤智 李丹 杨世凤 郭海成
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: 彩色滤光膜 硅覆液晶 微显示 三维 光学建模 优化
• 年，卷（期）: 2011,（6）
• 所属期刊栏目: 器件制备技术及器件物理
• 页码范围: 760-763
• 分类号: TN27
• 字数: 2893字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/YJYXS20112606.0760

摘要

应用彩色滤光膜硅覆液晶(Color Filter Liquid Crystal on Silicon,CF-LCoS)微显示器件的三维光学模型；研究了像素尺寸和彩色滤光膜厚度对彩色侧向场的影响.这两个参数可以影响微显示器件的色纯度、光反射率以及对比度等性能参数.对于特定的应用,需要考虑器件所有的性能参数要求,才能对像素尺寸和彩色滤光膜厚度进行优化.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨世凤	天津科技大学电子信息与自动化学院	97	1193	16.0	32.0
2	张宝龙	天津科技大学电子信息与自动化学院	10	59	4.0	7.0
3	李丹	天津科技大学电子信息与自动化学院	18	99	6.0	9.0
4	郭海成	香港科技大学显示技术研究中心	39	191	7.0	11.0
5	戴凤智	天津科技大学电子信息与自动化学院	11	56	3.0	7.0