光电化学法研究镍基合金在288℃高温水中生成氧化膜的半导体性质

• 作者: 张胜寒 梁可心 檀玉
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 化学
• 关键词: 光电化学响应 镍基合金 氧化膜 半导体性质 高温水
• 年，卷（期）: 2011,（9）
• 页码范围: 1147-1152
• 页数: 6页
• 分类号: O646
• 语种: 中文
• DOI: 10.3724/SP.J.1037.2011.00270

摘要

采用光电化学法研究了Incoloy800HT和Inconel600镍基合金在288℃高温水中形成的氧化膜的半导体性质.组成镍合金氧化膜的物相为Ni的氢氧化物或镍铁氧化物、Cr2O3和FexNi1-xCr2O4,它们的特征带隙宽度分别为2.3,2.9/3.5和4.1-4.3 eV.在-400 mV至+400 mV范围内,Incoloy800HT合金表面氧化膜的光电化学响应表现为n型半导体性质,Inconel600合金表面氧化膜的光电化学响应表现为n/p型半导体性质,同时,在半导体性质从n型转变为p型的临界电压下,光电化学响应相角发生180°转变.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张胜寒		84	410	12.0	15.0
2	檀玉		17	33	4.0	5.0
3	梁可心		12	19	3.0	4.0