同位素示踪法研究铜薄膜在水汽中的氧化传质机理

• 作者: 曹思 李劲 蒋益明 钟澄 龚佳
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 同位素示踪 短路扩散 铜薄膜 H2^18O
• 年，卷（期）: 2011,（7）
• 所属期刊栏目: 物理学交叉学科及有关科学技术领域
• 页码范围: 774-778
• 分类号: O484.1
• 语种: 中文

摘要

采用H2^16O／H2^18O接续氧化并结合同位素示踪方法，研究了铜薄膜在水汽中氧化的传质机理．将真空热蒸发制备的铜薄膜样品，分别在H2^160，H2^16O中以及H2^16O／H2^18O接续进行氧化处理；利用X射线衍射（XRD）研究了氧化产物的形态和结构；并用二次离子质谱仪（SIMS）研究了同位素^19O与^16O在氧化膜中的浓度分布．结果表明铜在水蒸汽中湿法氧化产物为Cu2O，微观氧化传质机理为短路扩散机理．

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	钟澄	复旦大学材料科学系	12	174	6.0	12.0
2	李劲	复旦大学材料科学系	50	355	9.0	17.0
3	蒋益明	复旦大学材料科学系	45	486	11.0	21.0
4	曹思	复旦大学材料科学系	2	1	1.0	1.0
5	龚佳	复旦大学材料科学系	9	74	5.0	8.0