半导体表面电学特性微观四点探针测试技术研究进展

• 作者: 巴德纯 李建昌 王永 简晓慧
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 四探针 微观四点探针 探针制备 表面电导率
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 页码范围: 1-8
• 分类号: TN307
• 字数: 6683字
• 语种: 中文

摘要

四探针法是材料学及半导体行业电学表征的常用方法.随着微电子器件尺度持续减小,新型纳米材料研究不断深入,须将探针间距控制到亚微米及其以下范畴才能获得更高的空间分辨率和表面灵敏度.近年来研究人员借助显微技术开发出两类微观四点探针测试系统,即整体式微观四点探针和独立四点扫描隧道显微镜探针系统,随着现代微加工技术的发展,当前探针间距已缩小到几十纳米范围.本文综述了微观四点探针技术近年来的研究进展,主要包括测试理论、系统结构与探针制备.其中,特别详述了涉及探针制备的方法、技术及所面临问题,并展望了微观四点探针研究的发展方向,并给出了一些具体建议.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李建昌		1	11	1.0	1.0
2	王永		1	11	1.0	1.0
3	简晓慧		1	11	1.0	1.0
4	巴德纯		1	11	1.0	1.0