掺B金刚石膜的电火花抛光实验研究

• 作者: 左敦稳 褚向前
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石膜 掺硼 电火花抛光 回归分析
• 年，卷（期）: 2011,（3）
• 所属期刊栏目: 功能薄膜
• 页码范围: 287-291
• 分类号: TB43|TG175
• 字数: 3259字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2011.03.08

摘要

通过化学气沉积过程中掺B,制备的金刚石膜电阻率下降10-19,导致金刚石膜整体导电,可采用电火花抛光.用扫描电镜和Raman分析了金刚石膜电加工表面的形貌和成分.金刚石膜的电火花抛光是多种效应综合作用的结果,即金刚石膜熔化、汽化、碳的氧化和蒸发、爆炸抛出、界面的化学反应以及金刚石的石墨化.通过实验研究了电加工参数对表面粗糙度和加工速度的影响,通过回归分析得到电火花抛光表面粗糙度和加工速度的经验公式,其相关系数的平方分别为0.91和0.99,表明拟合精度高.试验结果表明,放电电流和脉冲宽度对加工面的表面粗糙度和加工速度影响很大.放电电流为5 A、脉冲宽度为380 μs时,抛光后表面粗糙度Ra<1 μm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	左敦稳	南京航空航天大学机电学院	510	3780	26.0	32.0
2	褚向前	合肥工业大学真空科学技术与装备工程研究所	17	59	4.0	7.0