电沉积富集制样-X射线荧光光谱法测定痕量Ni、Cd和Pb

• 作者: 朱华兴 李强 汤志勇 王岳赟 郑洪涛
• 来源期刊: 分析试验室
• 学科: 化学
• 关键词: X射线荧光光谱法 电沉积 重金属
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 所属期刊栏目: 研究报告与研究简报
• 页码范围: 95-98
• 分类号: O657.3
• 字数: 2234字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-0720.2011.02.026

摘要

提出了电沉积富集制样-X荧光光谱法同时测定水样中痕量Ni、Cd和Pb的方法.方法以平整光滑的高纯铜片为基质,采用电解的方法对待测元素进行电沉积富集,然后用X射线荧光光谱仪进行测定.探讨了沉积电压、溶液pH值、电解质浓度、沉积时间等参数对待测元素电沉积富集的影响.方法精密度(RSD)分 别为Ni 1.6%、Cd 1.2%和Pb 2.1%;检出限分别为Ni 11.1、Cd 5.7 ng/mL和Pb10.5 ng/mL.方法可应用于环境水样中痕量Ni、Cd和Pb的测定.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李强	中国地质大学材料科学与化学工程学院	63	507	11.0	20.0
2	汤志勇	中国地质大学材料科学与化学工程学院	101	818	14.0	21.0
3	郑洪涛	中国地质大学材料科学与化学工程学院	19	133	6.0	10.0
4	王岳赟	中国地质大学材料科学与化学工程学院	1	2	1.0	1.0
5	朱华兴	中国地质大学材料科学与化学工程学院	2	7	2.0	2.0