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摘要:
在流动N2保护下,对高压烧结制备的AlN(Y2O3)陶瓷进行了热处理,研究了热处理对AlN陶瓷显微组织及导热性能的影响.结果表明:在970℃热处理2 h后的AlN陶瓷材料与未热处理的试样相比,晶粒尺寸显著增大,晶粒形状越发规整,析出相均位于晶界处或者三角晶界区域,热导率从77.3 W/(m·K)提高到了156.7 W/(m·K).但是,将热处理时间延长到4 h,AlN陶瓷的气孔增大,出现了反致密化现象,热导率也降低到92.6 W/(m·K).
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烧结助剂
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含C源AlN陶瓷基片烧结工艺研究
AlN陶瓷基片
常压烧结
晶相控制
石墨加热体
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 热处理高压烧结AlN陶瓷的显微组织和热导率
来源期刊 材料热处理学报 学科 工学
关键词 热处理 AlN陶瓷 热导率 显微结构 高压烧结
年,卷(期) 2011,(2) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 39-42
页数 分类号 TF122.1|TF124
字数 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李小雷 河南理工大学材料科学与工程学院 36 126 6.0 9.0
3 马红安 吉林大学超硬材料国家重点实验室 122 381 8.0 12.0
4 李尚升 河南理工大学材料科学与工程学院 27 48 5.0 5.0
5 宿太超 河南理工大学材料科学与工程学院 19 78 4.0 8.0
8 王利英 河南理工大学材料科学与工程学院 7 48 4.0 6.0
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热导率
显微结构
高压烧结
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材料热处理学报
月刊
1009-6264
11-4545/TG
大16
北京市海淀区学清路18号北京电机研究所内
82-591
1980
chi
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