一种新型可重复利用荫罩掩膜技术

• 作者: Mehmet R. Dokmeci Selvapraba Selvarasah 李兴辉
• 来源期刊: 真空电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 荫罩掩膜 聚对二甲苯 微细加工
• 年，卷（期）: 2011,（4）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 49-56
• 分类号: TN405
• 字数: 4378字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-8935.2011.04.014

摘要

利用化学气相沉积、光刻和反应离子刻蚀等微细加工技术,可以制作柔性、低成本、结实耐用、生物科技和半导体技术兼容、可重复使用的聚对二甲苯C荫罩掩膜.利用这种透明的惰性材料掩膜,可以制作出传统平面微加工技术难以实现的曲面微图形,同时在多次使用场合,可以实现其它柔性荫罩掩膜材料难以达到的微米级特征尺寸,并能保持很好的图形复制特性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李兴辉	北京真空电子技术研究所大功率微波电真空器件技术国防科技重点实验室	13	81	5.0	9.0
2	Selvapraba Selvarasah	北京真空电子技术研究所大功率微波电真空器件技术国防科技重点实验室	1	0	0.0	0.0