磁场非平衡度对CrNx镀层性能的影响

• 作者: 曹政 王涛 蒋百灵 鲁媛媛
• 来源期刊: 材料研究学报
• 学科: 工学
• 关键词: 无机非金属材料 CrNx镀层 非平衡度 离子轰击
• 年，卷（期）: 2011,（3）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 313-320
• 页数: 8页
• 分类号: TB43
• 语种: 中文

摘要

使用具有不同非平衡度的磁控管直流磁控溅射技术沉积CrNx镀层,并用Langmuir探针诊断、高斯仪测量、Ansys软件模拟等手段进行表征,研究了磁场非平衡度对溅射等离子体的空间分布状态以及CrNx镀层的微观结构、硬度及摩擦性能的影响.结果表明:低非平衡度磁控管(K为2.78)将多数离子束缚在靶材表面大约6 cm范围内,而对于高非平衡度磁控管(K为6.41)则在此区域没有类似的高密度等离子体存在.随着磁场非平衡度的增大,CrNx镀层的厚度递增,物相结构也从Cr+Cr2N依次向Cr+Cr2N+CrN和Cr2N+CrN转化,且镀层的平整度和致密性随之明显改善.同时,CrNx镀层的硬度随着非平衡度的增大而提高,摩擦系数则随之减小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋百灵		241	5240	40.0	64.0
2	王涛		64	576	14.0	20.0
3	曹政		12	52	5.0	6.0
4	鲁媛媛		8	27	4.0	5.0