薄膜生长工艺对TiO2基紫外探测器光电性能的影响

• 作者: 刘大博 祁洪飞
• 来源期刊: 航空材料学报
• 关键词: 溶胶-凝胶 磁控溅射 TiO2薄膜 紫外探测器 光电性能
• 年，卷（期）: 2011,（5）
• 页码范围: 47-50
• 分类号: TN36
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-5053.2011.5.009

摘要

分别采用磁控溅射和溶胶-凝胶工艺制备了相同厚度的TiO2薄膜,并用以制备了金属-半导体-金属(MSM)结构TiO2基紫外探测器.通过紫外光电性能测试、扫描电子显微镜(SEM)观察及X射线衍射(XRD)分析,研究了TiO2薄膜生长工艺对探测器光电性能的影响规律.结果表明:磁控溅射工艺下,探测器的光电流虽然较低,但响应时间和暗电流远小于溶胶-凝胶工艺制备的探测器,其具备了高辐射灵敏度和快速响应特性.磁控溅射工艺制备的TiO2薄膜结构较为致密,晶界和缺陷较少,方阻较高,这是其取得优良的光电特性的原因.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	祁洪飞		24	59	5.0	5.0
2	刘大博		38	375	7.0	18.0