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铜基催化剂在甲基氯硅烷直接合成过程中的工艺特性
铜基催化剂在甲基氯硅烷直接合成过程中的工艺特性
作者:
汪超
王光润
王金福
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
甲基氯硅烷
直接合成法
铜基催化剂
反应速率
选择性
摘要:
在搅拌床反应器中使用铜基催化剂(辅以少量Zn,Sn,P助剂)催化硅粉与氯甲烷反应合成甲基氯硅烷,考察了温度、压力和催化剂用量对反应速率和产物选择性的影响.结果表明,在温度320℃、压力0.1 MPa条件下,平稳期的催化反应速率可达210 g/(kg.h),二甲基二氯硅烷的选择性可达87.7%;升高温度可大幅提高反应速率,但超过330℃会显著降低反应选择性;压力在0.3 MPa以下反应速率对氯甲烷近似为一级反应,选择性受压力影响较小;一定范围内增加催化剂用量可提高速率,但会缩短反应平稳期,造成硅粉利用效率下降.
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文献信息
篇名
铜基催化剂在甲基氯硅烷直接合成过程中的工艺特性
来源期刊
过程工程学报
学科
工学
关键词
甲基氯硅烷
直接合成法
铜基催化剂
反应速率
选择性
年,卷(期)
2011,(4)
所属期刊栏目
过程与工艺
研究方向
页码范围
639-643
页数
分类号
TQ264.1
字数
3959字
语种
中文
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1
王金福
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清华大学化学工程系
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主办单位:
中国科学院过程工程研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1009-606X
CN:
11-4541/TQ
开本:
大16开
出版地:
北京353信箱
邮发代号:
80-297
创刊时间:
1976
语种:
chi
出版文献量(篇)
4156
总下载数(次)
12
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