PECVD氮化硅薄膜工艺参数研究

• 作者: 何京鸿 尹云坤 廖华 张树明 罗群 胡俊涛
• 来源期刊: 云南师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: PECVD氮化硅减反射膜 工艺参数 优化
• 年，卷（期）: 2011,（5）
• 所属期刊栏目: 可再生能源研究
• 页码范围: 28-32
• 分类号: TK513
• 字数: 2572字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-9793.2011.05.006

摘要

根据太阳电池组件的结构和封装材料特性,设计出硅太阳电池片减反射薄膜的最佳厚度和折射率,利用泰勒公式进行优化PECVD制备氮化硅薄膜的工艺参数.通过实验,找出适合中电48所工业生产用管式PECVD制备氮化硅薄膜的工艺参数.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	廖华	云南师范大学太阳能研究所	46	298	9.0	15.0
2	张树明	云南师范大学太阳能研究所	3	9	1.0	3.0
4	何京鸿	云南师范大学太阳能研究所	4	15	2.0	3.0
7	尹云坤		1	7	1.0	1.0
8	胡俊涛		1	7	1.0	1.0
9	罗群		1	7	1.0	1.0