分子动力学模拟不同入射能量的CH与碳氢薄膜的相互作用

• 作者: A.Bogaerts 吕晓丹 宁建平 秦尤敏 苟富均 贺平逆 赵成利
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 分子动力学 碳氢薄膜 再沉积 吸附率
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 页码范围: 138-143
• 分类号: TL62
• 字数: 4040字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2011.02.03

摘要

本文使用分子动力学方法模拟低能CH与碳氢薄膜的相互作用,以探讨在核聚变过程中CH的再沉积行为及对面向等离子体材料性质变化的影响.选择的入射能量分别为0.3,1,5,10 eV.模拟结果表明随着入射能量的增加C原子与H原子的吸附率增加,且在入射能量大于CH离解能的情况下,同一能量下H原子的吸附率小于C原子的吸附率.随着入射能量的增加,薄膜的厚度增加,薄膜中含有Csp2的范围变宽,并且表面逐渐转变为Csp2表面.薄膜中的C主要以Csp3形式存在,其次是Csp2,几乎不含Csp1.通过统计薄膜中的CHx(x为1～4)发现CH占优势,其次是CH2,而CH4的量非常少.