非球面精密数控研抛中研抛力的控制

• 作者: 史永杰 王龙山 胡利永 郑堤
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 数控研抛 非球面 研抛力 研抛压力 磁流变力矩伺服装置
• 年，卷（期）: 2011,（5）
• 所属期刊栏目: 微纳技术与精密机械
• 页码范围: 1013-1021
• 分类号: TQ171.684
• 字数: 4381字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/OPE.20111905.1013

摘要

提出了一种基于磁流变力矩伺服装置(MRT)的研抛力控制方法来控制非球面数控研抛系统中的研抛力以实现恒压力研抛.研究了该方法的原理、模型、影响因素并研发了相应的实验研究系统.阐述了基于磁流变力矩伺服装置的研抛力控制原理;应用Preston方程分析了恒压力控制的重要性并基于Hertz理论建立了研抛压力模型,进而建立了研抛力控制模型,探讨了影响研抛力控制的主要因素;最后,规划了系统的研抛压力并进行了实验研究.实验结果表明,在研抛用时均为90 min的情况下,恒力研抛得到的非球面表面粗糙度为0.067 μm,表面粗糙度不均匀度为94.4%,而恒压力研抛得到的表面粗糙度为0.028μm,表面粗糙度不均匀度为11.4%,研抛质量和效率显著提高.该方法能够独立、主动、实时地控制研抛过程中的研抛力和研抛压力,实现非球面超精密、高效、低成本数控研抛.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王龙山	吉林大学机械科学与工程学院	70	964	18.0	27.0
2	郑堤	宁波大学机械工程与力学学院	46	331	9.0	16.0
4	胡利永	宁波大学机械工程与力学学院	9	45	5.0	6.0
7	史永杰	吉林大学机械科学与工程学院	3	41	3.0	3.0