AZ91D镁合金微弧氧化中电源脉冲宽度的影响研究

• 作者: 王蕊 田庆涛 贾金龙 马跃洲
• 来源期刊: 铸造技术
• 学科: 工学
• 关键词: 镁合金 微弧氧化 脉冲宽度
• 年，卷（期）: 2011,（4）
• 所属期刊栏目: 实用技术研究
• 页码范围: 514-518
• 分类号: TG174
• 字数: 3874字
• 语种: 中文

摘要

为研究带放电回路的微弧氧化电源脉冲宽度对镁合金微弧氧化的影响,设计了在恒电压增幅和频率为667 Hz的条件下,占空比在10%～90%之间的镁合金微弧氧化实验.研究发现,随着脉冲宽度的增加,起弧电压逐渐降低,大弧倾向增大;膜表面孔洞数量减少且孔径尺寸略有增大;微弧氧化的成膜效率随着脉冲宽度的增加先增大后减小;在占空比30%左右时成膜效率最高,并且膜层的耐蚀性最好.对于频率为667 Hz的镁合金微弧氧化,脉冲宽度控制在300～600μs时成膜效率最高且膜层质量较好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马跃洲	兰州理工大学甘肃省有色金属新材料省部共建国家重点实验室	60	493	13.0	18.0
2	田庆涛	兰州理工大学甘肃省有色金属新材料省部共建国家重点实验室	3	15	2.0	3.0
3	贾金龙	兰州理工大学甘肃省有色金属新材料省部共建国家重点实验室	4	19	3.0	4.0
4	王蕊	兰州理工大学甘肃省有色金属新材料省部共建国家重点实验室	6	18	2.0	4.0