基板温度对电子束沉积LaF3薄膜残余应力的影响

• 作者: 宋连科 苏富芳 郝殿中 韩培高 马丽丽
• 来源期刊: 曲阜师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 光学薄膜 基板温度 残余应力 电子束沉积 LaF3
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 页码范围: 48-50
• 分类号: O484.1
• 字数: 1490字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5337.2011.01.012

摘要

采用电子束沉积的方法,分别在K9玻璃基片上制备了LaF3单层膜.研究了基板温度对LaF3薄膜残余应力的影响;基板温度从200 ℃上升到350℃,间隔为50℃.利用ZYGO干涉仪测量了基板镀膜前后的面型变化,利用Stoney公式计算出残余应力;分析结果表明:在本实验条件下,残余应力为张应力,随基板温度的增加,有增大的趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	韩培高	山东省激光偏光与信息技术重点实验室曲阜师范大学激光研究所	5	3	1.0	1.0
2	宋连科	山东省激光偏光与信息技术重点实验室曲阜师范大学激光研究所	5	5	2.0	2.0
3	郝殿中	山东省激光偏光与信息技术重点实验室曲阜师范大学激光研究所	11	6	2.0	2.0
4	马丽丽	山东省激光偏光与信息技术重点实验室曲阜师范大学激光研究所	2	3	1.0	1.0
5	苏富芳	山东省激光偏光与信息技术重点实验室曲阜师范大学激光研究所	2	3	1.0	1.0