美开发出热蘸笔纳朱光刻技术

• 来源期刊: 科技创新与生产力
• 关键词: 纳米光刻技术 美国科学家 开发 物理学家 表面构造
• 年，卷（期）: 2011,（12）
• 页码范围: 112-112
• 分类号: TN4
• 语种: 中文

摘要

据美国物理学家组织网2011年11月7日报道，美国科学家首次厘清了温度在蘸笔纳米光刻技术中的作用，据此研制出的热蘸笔纳米光刻技术能在物质表面构造大小为20纳米的结构。