工作气压对Bi薄膜沉积速率和表面形貌的影响

• 作者: 何智兵 廖国 李俊 杨晓峰 许华 谌加军 陈太红
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 直流磁控溅射 Bi薄膜 工作气压 沉积速率 表面形貌
• 年，卷（期）: 2011,（4）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 38-40,61
• 分类号: TG174.444|O484
• 字数: 3007字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2011.04.011

摘要

采用直流磁控溅射方法在不同工作气压下制备了Bi薄膜,对薄膜的晶体结构、沉积速率、表面形貌和生长模式进行了研究,并对其晶粒尺寸的变化规律进行了分析.X射线衍射(XRD)结果表明Bi薄膜均为多晶斜六方结构.研究发现沉积速率随工作气压的升高先增大后减小.扫描电镜(SEM)图像显示随着工作气压的升高,小晶粒尺寸增大、大尺寸晶粒逐渐消失,薄膜变得疏松多孔；薄膜经历柱状-节榴状-楔形3种生长方式.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	许华	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	23	287	9.0	16.0
2	陈太红	西华师范大学物理与电子信息学院	61	155	7.0	9.0
3	何智兵	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	46	212	7.0	11.0
4	李俊	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	25	55	4.0	6.0
5	廖国	西华师范大学物理与电子信息学院	2	11	1.0	2.0
9	杨晓峰	西华师范大学物理与电子信息学院	1	1	1.0	1.0
10	谌加军	西华师范大学物理与电子信息学院	3	88	2.0	3.0