157nm激光微加工过程中激光参量对刻蚀性能的影响

• 作者: 崔健磊 徐刚 戴玉堂 白帆
• 来源期刊: 激光技术
• 学科: 工学
• 关键词: 激光技术 157nm激光 激光参量 刻蚀效率 刻蚀质量
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 页码范围: 36-38,85
• 分类号: TN249
• 字数: 2399字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3806.2011.01.011

摘要

为了研究157nm激光工艺参量对刻蚀件能的影响,采用157nm深紫外激光对两种宽禁带材料(石英玻璃和蓝宝石)进行微刻蚀试验,得到了理想的工艺参量范围,蓝宝石的刻蚀速率大约是石英玻璃的一半,并且蓝宝石的刻蚀表面要比石英玻璃粗糙得多.随着刻蚀深度的增加,光解生成物的脱出变得困难,从而导致刻蚀速率的降低.选用较高的扫描速率和较低脉冲频率的组合进行激光扫描刻蚀能有效地降低刻蚀面的粗糙度.结果表明,对非金属材料的刻蚀,激光的能量密度在材料刻蚀阈值的2.5倍～4倍时能获得较好的刻蚀效果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	戴玉堂	武汉理工大学光纤传感技术与信息处理教育部重点实验室	40	174	7.0	12.0
2	崔健磊	武汉理工大学光纤传感技术与信息处理教育部重点实验室	5	19	2.0	4.0
3	徐刚	武汉理工大学光纤传感技术与信息处理教育部重点实验室	30	71	6.0	8.0
4	白帆	武汉理工大学光纤传感技术与信息处理教育部重点实验室	6	30	3.0	5.0