1kA高功率脉冲磁控溅射电源研制及试验研究

• 作者: 吴忠振 巩春志 朱宗涛 杨士勤 桂刚 田修波
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: HPPMS 1000A电源研制 逆变 并联均流 电压过冲
• 年，卷（期）: 2011,（4）
• 所属期刊栏目: 测量与控制
• 页码范围: 46-50
• 分类号: TN86
• 字数: 1980字
• 语种: 中文

摘要

高功率脉冲磁控溅射( HPPMS)以其在真空镀膜上更大的优势而越来越受到重视,高压大电流电源是实现HPPMS的关键因素.本文研制了1000 A高功率脉冲磁控溅射电源,给出了电源框架图和主电路拓扑结构图.对脉冲部分采用仿真分析探索大模块IGBT的不均流因素,结果表明驱动一致性是影响均流的关键原因之一；分析了大电流时1GBT两端电压过冲问题,采用RCD吸收和续流回路能有效抑制电压过冲,使电压过冲在正常安全范围内.用所研制的电源进行等离子体负载实验,运行良好,为性能优异薄膜的制备奠定硬件基础.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	巩春志	哈尔滨工业大学现代焊接与连接国家重点实验室	69	320	9.0	14.0
2	田修波	哈尔滨工业大学现代焊接与连接国家重点实验室	106	515	11.0	17.0
3	杨士勤	哈尔滨工业大学现代焊接与连接国家重点实验室	93	787	14.0	22.0
4	吴忠振	哈尔滨工业大学现代焊接与连接国家重点实验室	8	97	4.0	8.0
5	朱宗涛	哈尔滨工业大学现代焊接与连接国家重点实验室	6	82	3.0	6.0
6	桂刚	哈尔滨工业大学现代焊接与连接国家重点实验室	4	14	2.0	3.0