覆Os膜扩散阴极Os-W互扩散的探讨

• 作者: 程诚 聂秋玲
• 来源期刊: 真空电子技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 阴极 Os膜 互扩散
• 年，卷（期）: 2011,（4）
• 所属期刊栏目: 工艺与应用
• 页码范围: 72-74,84
• 分类号: O462
• 字数: 2010字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-8935.2011.04.020

摘要

介绍了对覆锇扩散阴极锇膜与钨基间互扩散过程的研究结果.通过SEM对不同工作时间的阴极发射表面及纵向剖面的形貌进行分析,采用EDS对实验阴极的表面及纵向剖面进行元素成分的分析.研究表明,随工作时间的不同,阴极表面及纵向剖面Os-W浓度发生变化,呈现明显的扩散趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	程诚		6	26	3.0	4.0
2	聂秋玲		2	5	2.0	2.0