金属有机沉积法制备SrTiO3薄膜

• 作者: 冉阿倩 李凤华 李英楠 樊占国 洪成哲 罗清威
• 来源期刊: 材料与冶金学报
• 学科: 工学
• 关键词: 金属有机沉积 涂层导体 SrTiO3 缓冲层 烧结时间
• 年，卷（期）: 2011,（3）
• 所属期刊栏目: 材料制备
• 页码范围: 193-197
• 分类号: TM262
• 字数: 1564字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-6620.2011.03.009

摘要

采用金属有机沉积( MOD)法制备了SrTiO3 (STO)外延薄膜作为YBa2Cu3O7-δ涂层导体的缓冲层.以乙酸锶、钛酸丁酯为前驱物配制了Sr离子浓度为0.125 mol ·L-1的SrTiO3前驱溶液.研究了950℃下不同烧结时间(90、120、150 min)对在双轴织构的Ni -W(200)金属基带上沉积STO外延薄膜晶体取向和微观形貌的影响.结果表明,在950℃氩氢混合气氛(Ar - 4％ H2)下适宜于STO薄膜外延生长的最佳烧结时间为120 min；STO缓冲层薄膜表面平整致密,无裂纹和孔洞,具有良好取向,可作为YBa2Cu3O7-δ涂层导体的缓冲层.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	樊占国	东北大学材料与冶金学院	87	611	14.0	19.0
2	李凤华	东北大学材料与冶金学院	60	375	12.0	16.0
4	罗清威	东北大学材料与冶金学院	11	20	3.0	4.0
6	李英楠	东北大学材料与冶金学院	19	42	3.0	4.0
8	冉阿倩	东北大学材料与冶金学院	5	27	2.0	5.0
18	洪成哲	金策工业综合大学物理工程研究所	4	4	1.0	2.0