Ta2O5及Nb2O5掺杂NdAlO3-CaTiO3陶瓷的介电性能研究

• 作者: 余乐思 吴坚强 吴迪 李彬
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: NdAlO3-CaTiO3 介电性能 添加剂 氧空位
• 年，卷（期）: 2011,（7）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 5-8
• 分类号: TM28
• 字数: 2889字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2011.07.002

摘要

采用固相反应法制备0.3NdAlO3-0.7CaTiO3(CTNA)介质陶瓷。研究了Ta2O5及Nb2O5掺杂对所制CTNA陶瓷性能的影响。结果表明：Nb2O5和Ta2O5掺杂后，CTNA陶瓷的氧空位缺陷减少，显微结构改善，介电常数提高、介质损耗降低。同时加入质量分数w(Nb2O5)为0.1％，w(Ta2O5)为0.8％时，获得的CTNA陶瓷的综合性能较好：介质损耗为1.2×10-4，相对介电常数为46.36，体积密度为4.845 g/cm3。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴坚强		51	239	9.0	13.0
2	吴迪		23	76	5.0	8.0
3	李彬		1	5	1.0	1.0
4	余乐思		2	5	1.0	2.0