双面抛光运动的数学建模及轨迹优化

• 作者: 左敦稳 张彦 朱永伟 李军 李标 蒋毕亮 高平
• 来源期刊: 光学技术
• 学科: 工学
• 关键词: 光学材料 双面抛光 数学建模 轨迹优化
• 年，卷（期）: 2011,（3）
• 所属期刊栏目: 光学工艺
• 页码范围: 279-283
• 分类号: TG74
• 字数: 2894字
• 语种: 中文

摘要

双面抛光运动过程复杂,对光学材料的加工有重要的影响,运动轨迹分布不但影响加工效率,而且影响加工工件的表面质量.通过分析双面抛光加工的运动过程,建立双面抛光中任意一点相对于上抛光盘的运动轨迹的数学模型,改变数学模型中的轨迹运动参数,观察不同参数值对抛光轨迹分布的影响,优化分析得出抛光轨迹分布最佳的运动参数值.研究结果表明,工件在行星轮中的位置远离行星轮的回转中心,行星轮与整个抛光盘半径比为0.3,抛光盘与内齿轮的转速比在3～8倍之间,内外齿轮的转速比在1～4倍的范围内,获得的抛光轨迹最优.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	左敦稳	南京航空航天大学机电学院	510	3780	26.0	32.0
2	李军	南京航空航天大学机电学院	69	660	16.0	22.0
3	朱永伟	南京航空航天大学机电学院	128	1288	19.0	26.0
4	张彦	南京航空航天大学机电学院	11	116	7.0	10.0
5	李标	南京航空航天大学机电学院	3	54	3.0	3.0
6	高平	南京航空航天大学机电学院	3	39	2.0	3.0
7	蒋毕亮	南京航空航天大学机电学院	1	9	1.0	1.0